任職資格:
1、本科及以上學(xué)歷,微電子、半導(dǎo)體材料、材料物理與化學(xué)、等離子體等專業(yè);
2、具備解決問題的能力,統(tǒng)計(jì)調(diào)查分析能力,善于發(fā)現(xiàn)并解決問題;
3、具有三年以上相關(guān)工作經(jīng)驗(yàn),有前端等離子刻蝕工藝經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先;
崗位職責(zé):
1、獨(dú)立負(fù)責(zé)刻蝕工藝的研發(fā),使用PECVD和RIE設(shè)備;
2、完成機(jī)臺(tái)的正常操作和日常維護(hù)工作;
3、獨(dú)立負(fù)責(zé)完成不同形狀、不同深寬比、垂直角度刻蝕工藝的研發(fā)等;
4、負(fù)責(zé)調(diào)控介質(zhì)膜生長(zhǎng)及溫度、均勻性和沉積速率等工藝;
5、完成對(duì)常用介質(zhì)膜的圖形化刻蝕工藝研發(fā);
6、執(zhí)行、優(yōu)化工藝流程、工藝參數(shù)及產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn),解決客戶現(xiàn)場(chǎng)問題;
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